சிலிக்கான் டை ஆக்சைடு செதில் SiO2 செதில் தடிமனான பளபளப்பான, பிரைம் மற்றும் டெஸ்ட் கிரேடு

குறுகிய விளக்கம்:

வெப்ப ஆக்சிஜனேற்றம் என்பது சிலிக்கான் டை ஆக்சைடு (SiO2) ஒரு அடுக்கை உருவாக்க ஆக்ஸிஜனேற்ற முகவர்கள் மற்றும் வெப்பத்தின் கலவையில் சிலிக்கான் செதில்களை வெளிப்படுத்துவதன் விளைவாகும். எங்கள் நிறுவனம் சிலிக்கான் டை ஆக்சைடு ஆக்சைடு செதில்களை வாடிக்கையாளர்களுக்கு வெவ்வேறு அளவுருக்களுடன், சிறந்த தரத்துடன் தனிப்பயனாக்கலாம்;ஆக்சைடு அடுக்கு தடிமன், கச்சிதமான தன்மை, சீரான தன்மை மற்றும் எதிர்ப்பாற்றல் படிக நோக்குநிலை அனைத்தும் தேசிய தரநிலைகளுக்கு ஏற்ப செயல்படுத்தப்படுகிறது.

எங்களுக்கு மின்னஞ்சல் அனுப்பவும்

தயாரிப்பு விவரம்

தயாரிப்பு குறிச்சொற்கள்

செதில் பெட்டியின் அறிமுகம்

தயாரிப்பு	வெப்ப ஆக்சைடு (Si+SiO2) செதில்கள்
உற்பத்தி முறை	LPCVD
மேற்பரப்பு மெருகூட்டல்	எஸ்எஸ்பி/டிஎஸ்பி
விட்டம்	2 இன்ச் / 3 இன்ச் / 4 இன்ச் / 5 இன்ச் / 6 இன்ச்
வகை	பி வகை / என் வகை
ஆக்சிஜனேற்ற அடுக்கு தடிமன்	100nm ~1000nm
நோக்குநிலை	<100> <111>
மின்சார எதிர்ப்பு	0.001-25000(Ω•cm)
விண்ணப்பம்	சின்க்ரோட்ரான் கதிர்வீச்சு மாதிரி கேரியர், அடி மூலக்கூறாக PVD/CVD பூச்சு, மேக்னட்ரான் ஸ்பட்டரிங் வளர்ச்சி மாதிரி, XRD, SEM,அணு விசை, அகச்சிவப்பு நிறமாலை, ஃப்ளோரசன்ஸ் ஸ்பெக்ட்ரோஸ்கோபி மற்றும் பிற பகுப்பாய்வு சோதனை அடி மூலக்கூறுகள், மூலக்கூறு கற்றை எபிடாக்சியல் வளர்ச்சி அடி மூலக்கூறுகள், படிக குறைக்கடத்திகளின் எக்ஸ்ரே பகுப்பாய்வு

சிலிக்கான் ஆக்சைடு செதில்கள் என்பது சிலிக்கான் செதில்களின் மேற்பரப்பில் ஆக்ஸிஜன் அல்லது நீராவி மூலம் அதிக வெப்பநிலையில் (800°C~1150°C) வளிமண்டல அழுத்த உலைக் குழாய் உபகரணங்களுடன் வெப்ப ஆக்சிஜனேற்ற செயல்முறையைப் பயன்படுத்தி வளர்க்கப்படும் சிலிக்கான் டை ஆக்சைடு படங்களாகும்.செயல்முறையின் தடிமன் 50 நானோமீட்டர்கள் முதல் 2 மைக்ரான்கள் வரை இருக்கும், செயல்முறை வெப்பநிலை 1100 டிகிரி செல்சியஸ் வரை இருக்கும், வளர்ச்சி முறை "ஈரமான ஆக்ஸிஜன்" மற்றும் "உலர் ஆக்ஸிஜன்" என இரண்டு வகைகளாக பிரிக்கப்பட்டுள்ளது.வெப்ப ஆக்சைடு என்பது "வளர்ந்த" ஆக்சைடு அடுக்கு ஆகும், இது CVD டெபாசிட் ஆக்சைடு அடுக்குகளை விட அதிக சீரான தன்மை, சிறந்த அடர்த்தி மற்றும் அதிக மின்கடத்தா வலிமை கொண்டது, இதன் விளைவாக சிறந்த தரம் உள்ளது.

உலர் ஆக்ஸிஜன் ஆக்சிஜனேற்றம்

சிலிக்கான் ஆக்ஸிஜனுடன் வினைபுரிகிறது மற்றும் ஆக்சைடு அடுக்கு தொடர்ந்து அடி மூலக்கூறு அடுக்கை நோக்கி நகர்கிறது.உலர் ஆக்சிஜனேற்றம் 850 முதல் 1200 டிகிரி செல்சியஸ் வெப்பநிலையில், குறைந்த வளர்ச்சி விகிதங்களுடன் செய்யப்பட வேண்டும், மேலும் MOS இன்சுலேட்டட் கேட் வளர்ச்சிக்கு பயன்படுத்தப்படலாம்.உயர்தர, மிக மெல்லிய சிலிக்கான் ஆக்சைடு அடுக்கு தேவைப்படும்போது ஈரமான ஆக்சிஜனேற்றத்தை விட உலர் ஆக்சிஜனேற்றம் விரும்பப்படுகிறது.உலர் ஆக்சிஜனேற்ற திறன்: 15nm~300nm.

2. ஈரமான ஆக்சிஜனேற்றம்

இந்த முறையானது நீராவியைப் பயன்படுத்தி அதிக வெப்பநிலை நிலைகளின் கீழ் உலைக் குழாயில் நுழைவதன் மூலம் ஆக்சைடு அடுக்கை உருவாக்குகிறது.ஈரமான ஆக்சிஜன் ஆக்சிஜனேற்றத்தின் அடர்த்தியானது உலர் ஆக்சிஜன் ஆக்சிஜனேற்றத்தை விட சற்றே மோசமாக உள்ளது, ஆனால் உலர் ஆக்சிஜன் ஆக்சிஜனேற்றத்துடன் ஒப்பிடும்போது அதன் நன்மை என்னவென்றால், இது அதிக வளர்ச்சி விகிதத்தைக் கொண்டுள்ளது, இது 500nm க்கும் அதிகமான பட வளர்ச்சிக்கு ஏற்றது.ஈரமான ஆக்ஸிஜனேற்ற திறன்: 500nm~2µm.

AEMDயின் வளிமண்டல அழுத்த ஆக்சிஜனேற்ற உலை குழாய் என்பது செக் கிடைமட்ட உலைக் குழாய் ஆகும், இது உயர் செயல்முறை நிலைத்தன்மை, நல்ல பட சீரான தன்மை மற்றும் உயர்ந்த துகள் கட்டுப்பாடு ஆகியவற்றால் வகைப்படுத்தப்படுகிறது.சிலிக்கான் ஆக்சைடு உலைக் குழாய் ஒரு குழாயில் 50 செதில்கள் வரை செயலாக்க முடியும், சிறந்த உள் மற்றும் இடை-செதில்கள் சீரான தன்மையுடன்.